Keywords: Leiterbahn ausfallort elektromigration03.jpg Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop Die Passivierung wurde vorher durch Reactive Ion Etching RIE und Fluorwasserstoffsäure HF entfernt Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das bestmögliche Resultat zu erlangen selbst mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen 2004-04-21 Patrick-Emil Zörner GFDL relicense PD-release Original upload log de wikipedia CommonsHelper page de wikipedia Leiterbahn_ausfallort_elektromigration03 jpg 2004-04-21 15 56 Paddy 512×512× 75616 bytes <nowiki></nowiki> 2004-04-21 15 48 Paddy 512×512× 61895 bytes <nowiki></nowiki> Electromigration |